分析低濃度
最小量測範圍可達0 - 10 ppm降低維護
採用更長壽命元件及自我診斷不易偏移
專有技術的化學發光量測原理不受壓力波動影響
可承受待測氣體壓力大浮度波動NH3 測量方法
催化劑還原法
前處理系統由填充有觸媒（催化劑）的NH3管線和未填充有觸媒的NOx管線組成。
量測二個管線NOx濃度差值獲得NH3濃度。
觸媒催化的溫度控制在350 ± 5 ℃
NO+NH3+1/4O2 -> N2+3/2H2O
NO+NO2+2NH3 -> 2N2+3H2O
交變式化學發光法CLA
零值氣體與待測氣體每0.5秒交變進入量測室，隨時做零點的修正，理論上而言，在本方式不容易發生零點偏移。
電磁閥控制順序
ZERO Line -> NOx Line -> ZERO Line -> NH3 Line
利用NO化學特性產生的螢光，量測螢光的強度，獲得NOx的濃度
NO+O3 -> NO2'+O2
NO2' -> NO2+hv.(螢光)
量 測 範 圍
NOx：0~20 / 0~100 ppm ; 選項0 ~ 400 ppm
NH3：0~20 / 0~100 ppm ; 選項0 ~ 10 ppm
O2：0~5 / 0~25 vol%
性 能 表 現
零點偏移 ZERO Drift：± 1.0 % Full Scale/每週
全幅偏移 SPAN Drift：± 2.0 % Full Scale/每週
線性：± 1.0 % Full Scale
再現性：± 0.5 % Full Scale
ENDA-C2000提供製程操作極大的幫助
監視
SCR觸媒反應效率控制
精準的NH3添加預防
硫酸氫銨(NH4)HSO4結晶形成流 程 圖
安 裝 位 置
為了保護環境，工廠會設置脫硫、脫硝設備，有效監控數據是否符合標準，並且大大節省氨水使用，減少成本支出。
外 箱 尺 寸
